如果设备已经连着运转达到一个月

  反渗透简称(RO)是膜分离技术的一种,它依靠反渗透膜在压力下使溶液中的溶剂和溶质分离的特性工作,“渗透”是一种物理现象,逆渗透就是在含有盐及各种细微杂质的是中(即原水)施加比自然渗透的细菌、及其它有害物质等都经污水口排放掉。

  反渗透和记娱乐的高压泵进口装有低压保护开关,出口装有高压保护开关。高压泵与水箱低液位连锁。当高压泵进口低压开关动作时,系统会自动发出信号停止高压泵的运行,保护高压泵不在缺水情况下工作。

  反渗透和记娱乐的启停保护。反渗透投入运行时,为了防止高压泵突然起动升压,采用出口电动慢开门缓慢提升压力,使膜元件逐渐升压至一定的压力。反渗透停止使用时,延迟关闭进水电动阀,启动反渗透冲洗泵,打开冲洗自动阀、浓水端自动排放阀和产水自动阀,自动冲洗5 10rain左右,以避免浓水中的高浓度盐类在RO膜的面沉积结垢而影响膜的性能。

  通过以上分析,程序首先要建立基于定时触发器的状态转换。所选定计时单位为0.1s,有输入时,计时开始;计时到时,输出线圈闭合;无输入时,线圈断开。所有状态依次触发,并全部保持到最后,直到系统最后一个状态触发,全部状态均断开。

  状态时序形成以后对于确定设备的输出动作是非常有帮助的,它可以使编程简单化。例如,要确定进水阀的输出就可以先看控制步序表的进水阀列,表明进水阀是在三个时间段里面是开的,其余是关的,并且后两个时间段是连续的。

  1、制取电子工业生产如单晶硅、半导体、集成电路块、IC芯片封装、显像管、玻壳、液晶显示器、光学、光电、热电厂、冶金、化工、轻工、汽车制造、、卫生等制造工业用纯水。

  2、单晶硅、半导体、集成电路块、IC芯片封装行业和记娱乐、太阳能硅片清洗水设备

  4、制取热力、火力发电锅炉,厂矿企业中、低压锅炉给水所需软化水、除盐纯水。

  5、制取饮料行业的饮的纯净水,蒸馏水、天然水、矿泉水、矿化水、酒类生产白酒勾兑用纯水、啤酒糖化投料用水及纯生啤酒过滤等。

  7、制取电镀工艺用去离子水、电池(蓄电池、锂电池)生产工艺的纯水,汽车、家用电器、建材产品表面涂装、清洗 纯水,镀膜玻璃用纯水,纺织印染工艺所需的除硬盐水。

  9、去离子水、DI水、超纯水、软化水、废水(污水)中水回用,电子工业用超纯水、单/多晶硅、半导体晶片切割制造、半导体芯片、半导体封装、引线框架、集成电路、液晶显示器、导电玻璃、显像管、线路板、光驼信、电脑元件、电容元器件等生产工业用纯水。

  禁止将纯水和浓水的阀门全部关闭,这样会造成容器的爆裂。在设备运行前,要认真的检查好各个阀门的状态,确保管道的通暢,不然会使容器爆裂或者吸瘪。在开机之前,要保证水源的充足再将高压泵开启,不然会使高压泵因空转而烧坏。在开关设备时,一定要按照使用说明的顺序进行,否则,会由于操作不当对设备造成损坏。如果室温达到零度以下,那么,在生产结束之后,要把水全部放掉,以确定设备不会因为水的结冰而冻坏。如果设备已经连着运转达到一个月,那么,就需要对设备进行清洗,对精密过滤器内的滤芯进行更换。如果设备已经运行一年。那么,要对产水量的大小和反渗透膜的使用情况进行观察,再对反渗透设备进行清洗。反渗透高压泵前的精密过滤器滤芯。反渗透纯净水设备分离过程优点不需加热、没有相变。能耗少。设备体积小、操作简单,适应性强。对环境不产生污染。反渗透纯净水设备运行参数产水量:0.25M3/h-150M3/h。出水电阻率:2-18MΩ.cm。回收率:50-75%。操作压力:1-1.5Mpa。细菌去除率99%。反渗透纯净水设备安装时注意如下几点反渗透安装应放置在室内,如放置在室外一定加装顶棚。反渗透一定要水平放置。运行反渗透之前,一定要对石英砂,活性炭进行反复的冲洗,知道出水干净位置,对离子交换器也要进行再生以及清洗设备在启动时,注意先启动前面增压泵,然后启动高压泵。反渗透纯净水设备清洗方法无论什么样的设备都要进行维护。这样才能保证其长久的运行。RO装置注满保护液后,关闭所有阀门,防止空气进入RO装置。d.环境在0~33℃采用NaHSO3保护液,温度小于0℃,采用18-20%甘油和1%NaHSO3组成的冻保护液。e.每一个月更换保护液一次。注:所有pH2~4HCL溶液和1%NaHSO3保护液,都须反渗透产水来配制。反渗透膜污染特征、清洗配方和用量1.反渗透膜污染特征反渗透膜经长期运行,在膜上会积累胶体、金属氧化物、细菌、有机物、水垢等物质,而造成膜污染,各种不同的膜污染引起的RO系统性能变化可参见下面综合判断。污染物类型RO系统性能变化盐透过率SI压差△PU产水量VP1.金属氧化物(Fe、Mn)迅速增加〉2X(2)迅速增加〉2X(1)迅速降低%-30%)2.钙镁沉淀(CaCOCaSO4)明显增加10%-20%增加10%-25%略有降低10%3.胶体无或缓慢增加≥2X(2)缓慢增加≥2X(2)缓慢减少下降≥40%(2)4.混合胶体(有机物、硅酸铝)迅速增加≥2-4X(1)缓慢增加≥2X(2)缓慢降低下降≥40%(2)5.细菌无或稍微增加增加≥2X下降≥30-50%6.阳离子性聚合物无无或稍微增加明显下降表中(1)表示发生在1-2天之内X-初投运或上一次清洗后的值表中(2)表示发生在2-3周以上△P-为反渗透装置进出口压差表中(3)表示反渗透膜清洗液配方。



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